
Análise rápida e precisa de revestimentos de nanoescala
FT160EscritórioXRFAnalisadores projetados para medir hojePCBpeças pequenas em semicondutores e microconectores. A capacidade de medir peças pequenas com precisão e rapidez ajuda a aumentar a produtividade e a evitar retrabalho caro ou desgaste de componentes.
FT160Os componentes ópticos policapilares podem medir menos do que50 μmCaracterizada por revestimentos de nanoescala, a tecnologia avançada do detector oferece alta precisão, mantendo tempos de medição curtos. Outras funções, como uma mesa de amostras grande, portas de amostras largas, câmeras de amostras de alta definição e janelas de observação robustas, facilitam o carregamento de itens de diferentes tamanhos e a localização de áreas de interesse em substratos grandes. O analisador é fácil de usar, com o seuQA / QCIntegração perfeita dos processos para alertá-lo antes de uma crise ocorrer.
Destaques do produto
FT160As tecnologias ópticas e de detectores são projetadas para análise de micromanchas e revestimentos ultrafinos, otimizadas para características mínimas.
Grande janela de observação para ver análises a uma distância segura
Método de medição conformenorma ISO 3497enorma ASTM B568eDIN 50987padrão
IPC-4552BeIPC-4553AeIPC-4554eIPC-4556Detecção de revestimento de consistência
Localização automática de características para configuração rápida de amostras
Seleção de configuração de analisador otimizada para suas aplicações
Menos do que50 μmCaracterísticas de medição de revestimentos de nanoescala
Duplicar o fluxo de análise dos instrumentos tradicionais
Capaz de acomodar amostras grandes de todas as formas
Projeto durável para uso em produção a longo prazo
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FT160 |
O FT160L |
do FT160S |
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Escala de elementos |
O Al-U |
O Al-U |
O Al-U |
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Detectores |
Detector de deriva de silício(SDD) |
Detector de deriva de silício(SDD) |
Detector de deriva de silício(SDD) |
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XÁnodo de tubo de raios |
O WouMo |
O WouMo |
O WouMo |
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Abertura |
Foco multicapilar |
Foco multicapilar |
Foco multicapilar |
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Tamanho do orifício |
30 μm @ 90%força (Mo tubo) |
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35 μm @ 90%força (W tubo) |
30 μm @ 90%força (Mo tubo) |
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35 μm @ 90%força (W tubo) |
30 μm @ 90%força (Mo tubo) |
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35 μm @ 90%força (W tubo) |
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XYProcesso de amostra do eixo |
400 x 300 milímetros |
300 x 300 milímetros |
300 x 260 milímetros |
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Tamanho máximo da amostra |
400 x 300 x 100 milímetros |
600 x 600 x 20 milímetros |
300 x 245 x 80 milímetros |
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Foco da amostra |
Foco laser e autofoco |
Foco laser e autofoco |
Foco laser e autofoco |
